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摘要:綜述了陶瓷注射成型目前的發(fā)展狀況以及該成型方法的優(yōu)點。詳細論述了陶瓷粉體性質、有機載體組成特別是表面活性劑對于陶瓷喂料和注射成型所成坯體性質的影響。分析了混煉順序、注射工藝參數(shù)、脫脂對陶瓷喂料的流變性以及所成型坯體性質的影響。

摘要:以水／環(huán)己烷／曲拉通-100／正己醇四元油包水微乳體系中的微乳液滴為納米微反應器，通過分別增溶在微反應器中的氧氯化鋯和沉淀劑(氨水)發(fā)生反應，可以制備出粒徑分布均勻、球形度較好的納米級超細氧化鋯粉體。實驗中采用粒度分析儀，XRD，SEM，TEM，比表面儀等對獲得的粉體進行了表征，利用高溫綜合熱分析儀分析了粉體的致密化行為，發(fā)現(xiàn)在燒結致密化過程中，無定型態(tài)的粉體于475℃左右結晶成為四方相的氧化鋯，在1080℃～1280℃范圍內(nèi)完成致密化收縮。干壓成型的坯體在1400℃，2h下燒結相對密度達98％以上，燒結體晶相為100％的四方相。

摘要:通過計算機對Pd基大塊金屬玻璃的過冷液相區(qū)寬度△Tx的表達式進行回歸處理分析，得到Pd基大塊金屬玻璃過冷液相區(qū)△Tx與反映合金混合熱變化的3個鍵參數(shù)(電負性差△X、原子尺寸差的百分數(shù)δ和電子濃度n)之間存在如下關系：△Tx=29．36909 3602．45898(△x)^2 9992．76758δ^2-3．95897n^2/3，相關系數(shù)為97．2％?！鱐x隨多元合金的電負性差和原子尺寸差的百分數(shù)的增加而增加，而隨電子濃度的增加而略有降低。

摘要:用磁控濺射法將NiTi薄膜沉積在純Cu箔片上，在800℃分別固溶30min，45min，60min和120min：采用X射線傅氏線形分析法計算各固溶時間的位錯密度及位錯分布參量。隨固溶時間的增加，平均位錯密度不斷下降；亞晶粒尺寸D逐漸增加；平均位錯分布參量基本不變。由位錯密度及位錯分布參量計算得到NiTi薄膜材料的顯微硬度值，隨固溶時間的增加，顯微硬度計算值明顯低于測量值。

摘要:根據(jù)1種新的Sol—Gel工藝設計思路，提出了在SiO2-CaO-MgO-P2O5多元體系中制備均勻凝膠的方法，并采用RAMAN，XRD和SEM對制得的凝膠物性進行了分析。結果表明：利用該方法可以成功地制備出均勻的生物凝膠。生物凝膠分子網(wǎng)絡呈群聚態(tài)，包括架狀、層狀、鏈環(huán)狀、二聚體及單體，以架狀為主。隨熱處理溫度升高，生物凝膠的晶化程度增加。生物凝膠干燥試樣中有大量微裂紋和孔洞，并含有殘余OH基團。試樣的這些特性可增加其在溶液中與水和小分子蛋白質鍵合的能力。

摘要:通過對混合元素法Ti-Fe合金燒結過程中的膨脹／收縮行為、淬火態(tài)和燒結態(tài)顯微組織的分析，研究了添加鐵對混合元素法Ti—Fe合金的燒結行為和組織演化的影響。結果表明：鐵元素對鈦粉末的燒結行為的影響可分為2個階段：(1)鐵元素的擴散均勻化；(2)單相的β-Ti(Fe)的燒結致密化。在升溫速率為5K／min和鐵含量為5w／％的情況下，鐵元素在Ti-Fe系的第1共晶點(1085℃)之前就完全固溶到鈦基體中，瞬時液相并沒有出現(xiàn)。添加鐵元素促進了Ti—Fe合金的燒結致密化。隨著鐵含量的提高，原始β晶粒平均尺寸及片狀α晶團(Colony)的平均尺寸略有增加，α片的平均厚度急劇下降。鐵的高擴散速率和鐵的β相穩(wěn)定效果是導致這些結果的主要原因。

摘要:對電磁鑄造圓形感應器產(chǎn)生的磁場在金屬熔體內(nèi)的電磁作用力進行了理論分析和實驗研究。指出導體中電磁作用力僅存在于徑向及軸向方向上。電磁作用力的大小不僅與磁感應強度有關，還與磁感應強度的分布梯度有關；電磁有旋力是由于磁場分布不均勻造成的，其旋度方向在柱坐標系的周向方向上。試驗研究分析了感應器結構、電流等工藝參數(shù)對電磁場分布的影響。

摘要:通過力學性能試驗，掃描電鏡觀測和化學重量分析，研究了直接時效與標準熱處理工藝處理的IN718合金盤材經(jīng)593℃-677℃高溫長期時效至2000h后力學性能和微觀組織行為。結果表明，直接時效的DA718合金在未經(jīng)長期時效前已含有約0．006w／％的α—cr相，于650℃和677℃時效2000h后α-Cr相均達0．6w／％左右，而在相同時效條件下，標準IN718合金α—Cr相比DA718要少。合金強度的變化規(guī)律與沖擊韌性明顯不同，2種合金微觀組織演變行為也有明顯區(qū)別，特別是α—Cr和δ相的變化行為。因此，合金微觀組織行為對綜合力學性能的影響需要進行綜合考慮。

摘要:在 SPF-430H 濺射系統(tǒng)上采用不加偏壓的射頻磁控濺射法制備了 TbCo 非晶垂直磁化膜, 并就 Cr 底層對 TbCo 非晶垂直磁化膜磁性能的影響進行了研究。結果表明,Cr 底層的存在能夠增強 TbCo 非晶垂直磁化膜的磁各向異性,并使得其矯頑力增加。分別采用 VTBH-1 型高感度振動樣品磁強計和 MTL-1 磁轉矩系統(tǒng)測量了 TbCo薄膜的磁滯回線和磁轉矩曲線。結果發(fā)現(xiàn),厚度為 120 nm,并帶有 180 nm 厚度 Cr 底層的 Tb31C69 薄膜的矯頑力和磁各向異性能分別高達 51.2×104 A/m 和 0.457 J/cm3;沒有帶 Cr 底層的同樣厚度的 Tb31C69 薄膜的矯頑力和磁各向異性能分別只有 35.2×104 A/m 和 0.324 J/cm3。Hitachi X-650 型掃描電鏡的觀測結果表明,帶有 Cr 底層的TbCo 薄膜具有柱狀結構,這一柱狀結構導致了磁各向異性能的增強以及矯頑力的提高。

摘要:利用熱壁化學氣相沉積在Si(111)襯底上獲得GaN晶環(huán)，采用掃描電鏡(SEM)、選擇區(qū)電子衍射(SAED)、X射線衍射(XRD)，光致發(fā)光(PL)譜和傅里葉紅外吸收譜(FTIR)對晶環(huán)的組成、結構、形貌和光學特性進行分析。初步結果證明：在Si(111)襯底上獲得擇優(yōu)生長的六方纖鋅礦結構的GaN晶環(huán)。SEM顯示在均勻的薄膜上出現(xiàn)直徑約為10μm的5品環(huán)，由XRD和SAED的分析證實晶環(huán)呈六方纖礦多晶結構，F(xiàn)TIR顯示GaN薄膜的主要成分為GaN，同時含有少量的C污染，PL測試表明晶環(huán)呈現(xiàn)不同于GaN薄膜的發(fā)光特性。

摘要:利用溶膠-凝膠自燃燒高溫合成法制備了稀土La摻雜鋇鐵氧體BaLa0.3Fe11.7O19納米粉末.用X射線衍射儀、振動樣品磁強計和透射電鏡對不同溶膠組成下合成的粉末的結構、磁學性能、粒度及形貌進行了研究.試驗表明用氨水調節(jié)溶液起始pH值以及加入適量的檸檬酸和乙二醇是合成結構純凈、性能優(yōu)異的BaLa0.3Fe11.7O19納米粉末的2個關鍵步驟.在溶液起始pH值呈弱酸性(7.0左右)、檸檬酸/硝酸鹽=3、煅燒溫度為850℃,保溫1 h的條件下,利用溶膠-凝膠自燃燒高溫合成法可以制備出粒徑為36nm的磁鉛石結構的BaLa0.3Fe11.7O19粉末,其磁學性能優(yōu)異,比飽和磁化強度可達65.54 A·m2/kg,矯頑力可達433 kA/m.

摘要:通過X射線衍射(XRD)、金相顯微鏡、掃描電鏡(SEM)、能譜分析(EDS)及壓痕技術研究了Er對Mo5Si3基合金(鉬硅質量比5：1)室溫組織與性能的影響。研究結果表明：Er的添加導致了三元化合物相Mo3Er2Si4的形成：合金的組織形貌隨Er含量不同有所差異，且隨Er含量增加，組織中MoSi2相逐漸減少，三元化合物的含量則逐漸增加：過渡族元素Er在MoSi2中不固溶，在Mo5Si3中的溶解度也極?。篍r含量為1wt％時得到略高的室溫硬度值。Er難以明顯改善室溫斷裂韌性。

摘要:采用雙層輝光離子滲碳技術在本底真空度為 5×10-3Pa 的高真空下,用 99.999%的高純氬氣進行無氫滲碳。在整個工藝過程中,沒有涉及到氫元素,實現(xiàn)了無氫滲碳。試樣材質為 TA1 工業(yè)純鈦,用透射電鏡(TEM)觀察滲層結構;X 射線衍射(XRD)測定滲層的相組成;用 M200 耐磨試驗機測定滲碳試樣的耐磨性能;滲碳試樣的磨痕表面狀態(tài)用 TR240型粗糙度儀測定。滲碳層厚度大于 100 μm。表面層生成的是 TiC,基體仍為 α-Ti。近表面滲層維氏硬度為 6 000 MPa,表面的硬度遠大于此值。摩擦系數(shù) 0.11。純鈦經(jīng)過無氫滲碳后,與未經(jīng)過處理的純鈦相比磨損量僅為純鈦試樣的1/1 592.5。研究得出:鈦材經(jīng)過雙輝等離子無氫滲碳后,不僅提高了表面的硬度,同時降低了摩擦系數(shù),因而使耐磨性能得到了大幅度的提高。

摘要:通過力學性能、電學性能測量和金相、電鏡觀察對Cu-Al2O3彌散強化銅合金的冷加工及退火后性能和組織的變化進行了系統(tǒng)研究。結果表明：擠壓態(tài)合金隨冷拉拔變形量增大，σb和σ0.2逐漸升高，δ逐漸下降，電導率則變化甚微。合金經(jīng)92％的變形后，σb，σ0.2,δ和電導率分別為490MPa，485MPa，10％和91．4％IACS，其在400℃～1000℃溫度范圍退火后性能有不同程度的回復。不同變形量的合金樣品900℃ 1h退火后性能均回復至擠壓態(tài)水平，且未見再結晶現(xiàn)象。冷拉拔有利于粉末顆粒間進一步冶金化結合。

摘要:采用 PHI-650 型掃描俄歇電子能譜(SAM)研究金屬鈾在超高真空原位斷裂后斷面在不同氧氣暴露量和溫度下的氧化規(guī)律和雜質元素在表面的擴散行為。實驗中采用在主真空室內(nèi)的裝置在超高真空中打斷鈾樣品,然后在 1×10-5 Pa的壓力下充入暴露量為 5 L、20 L、70 L、170 L 和 270 L 的高純氧氣進行氧化實驗并獲取 U,O,S 和 C 的俄歇電子譜。實驗結果表明:在 5 L 和 20 L 的氧氣暴露量下表面形成 UO2 和金屬 U 的混合物,在大于 70 L 情況下只形成 UO2。 在1×10-7 Pa 的真空中將 UO2 加熱到 100℃,150℃,200℃和 300℃并進行 SAM 分析,結果顯示:隨溫度的升高,尤其是在 300℃時元素 S 向表面擴散,形成明顯的富集,且表面氧和鈾的原子濃度比明顯下降。

摘要:以碳熱還原法合成的 AlN 粉末和市售 BN 粉末為原料,添加 5%Y2O3 為燒結助劑,利用無壓燒結制備 AlN-15BN復合陶瓷,研究了燒結溫度對 AlN-15BN 復合陶瓷相變、致密度、微觀結構以及性能的影響,結果表明:Y2O3 可與 AlN粉末表面的 Al2O3 發(fā)生反應生成液相促進燒結,隨著燒結溫度的升高,復合陶瓷的致密度、熱導率和硬度逐漸增加,片狀的 BN 形成的卡片房式結構會阻礙復合陶瓷的收縮和致密。在 1 850℃燒結 3 h,可以制備出相對密度為 86.4%,熱導率為104.6 W?m-1?K-1,硬度為 HRA56.2的 AlN-15BN復合陶瓷。研究表明,通過添加加工性能良好的 BN制備可加 AIN-BN復合陶瓷,是解決 AIB 陶瓷復雜形狀成形問題的一個重要途徑。

摘要:通過TiMn1.25Cr0.25合金粉活化前在空氣中暴露不同的時間，探討了表面氧化層的形成對其活化性能的影響?；罨瘻y試結果表明：合金的活化難度隨著合金在空氣中暴露時間的延長而加大。俄歇電子能譜(AES)結果表明，在空氣中暴露后的合金表面形成了一層大約6nm-10nm厚的表面氧化層，正是這層氧化層的形成加大了合金的活化難度。掃描電鏡(SEM)結果表明合金的活化過程與合金的碎化有著密切的聯(lián)系。

摘要:沉積在ZrN，TaN阻擋層上的Cu膜分別在真空和氫氣、氮氣的混合氣氛下退火。利用SEM、XRD和電阻率來表征多層膜的熱穩(wěn)定性。實驗結果表明：對于沉積在同種阻擋層上的多層膜在混合氣氛中退火的熱穩(wěn)定性較真空退火的要高。對真空退火處理，沉積在ZrN阻擋層上的多層膜的熱穩(wěn)定性比沉積在TaN阻擋層上的要高。研究結果表明：多層膜的熱穩(wěn)定性的評價不僅跟多層膜本身的因素有關，如阻擋層的種類，還和退火氣氛有關。

摘要:用金相顯微鏡，X射線衍射(XRD)，掃描電鏡(SEM)，透射電鏡(TEM)和X射線能譜(EDS)對等離子弧堆焊Co—Cr—W系多元合金層進行了研究，結果表明，合金層基體為具有(200)晶面擇優(yōu)取向的Co基固溶體，Co基固溶體中存在許多堆垛層錯；與固溶體組成共晶體的碳化物主要為具有六方點陣并含有層片狀孿晶的(Cr,Fe)7C3。

摘要:采用離子輔助轟擊共濺射設備，在Si基體的(111)晶面上制得了所需的銅膜。采用納米壓入實驗，獲得不同退火溫度下Cu膜的彈性模量和硬度。再在納米壓入實驗的基礎上，結合有限元模型計算不同退火溫度下磁控濺射得到的Cu膜屈服強度。發(fā)現(xiàn)Cu膜的屈服強度遠高于整體Cu材料的屈服強度，并且退火溫度對薄膜的屈服強度影響很大。通過XRD測量發(fā)現(xiàn)其主要原因是退火改變了晶粒尺寸和多晶Cu膜的晶粒取向分布，而導致Cu膜屈服強度的降低。

摘要:OH自由基屬于活性氧自由基，具有強氧化作用，在生物體內(nèi)可損傷機體。硝酸鈰中稀土離子Ce^3 具有變價特性，較容易實現(xiàn)三價與四價之間的轉變，并能與OH自由基反應。本研究利用納米TiO2的光催化作用產(chǎn)生OH自由基，將硝酸鈰與TiO2混合，以DMPO作為捕捉劑，用電子自旋共振(ESR)的方法證實了在硝酸鈰的作用下，納米TiO2產(chǎn)生的OH自由基數(shù)量大為減少，從而證明硝酸鈰可有效清除OH自由基。

摘要:采用X射線衍射及相應交相關定峰法，通過電解拋光逐層測定了TC18超高強度鈦合金噴丸的殘余壓應力，并分析了殘余壓應力場的特征及規(guī)律，同時研究了在交變應力和溫度下殘余壓應力的松弛，結果表明，殘余壓應力場中的最大值為材料的本征參數(shù)，它與噴丸強化工藝無關，這對超高強度鈦合金噴丸工藝的制定和應用具有重要意義。

摘要:利用高能球磨技術及熱壓燒結工藝制備出第二相彌散均勻分布于Ag基體中的納米復合AgNi和AgSnO2觸頭，對復合粉末和合金觸頭進行了X射線衍射(XRD)、掃描電鏡(SEM)和透射電鏡(TEM)分析。結果發(fā)現(xiàn)：經(jīng)長時間高能球磨后，復合粉末的晶粒明顯細化，第二相粒子尺寸已達到40nm左右，并在球磨過程中通過嵌入、焊合彌散分布于Ag基體中，消除了傳統(tǒng)方法第二相聚集及在晶界處的連續(xù)析出等缺陷。在退火、熱壓過程中第二相并未明顯長大，仍保持在50nm左右。對觸頭進行SEM觀察時發(fā)現(xiàn)，2種觸頭的晶界處都保持著有利于電性能的Ag膜。與常規(guī)商用觸頭相比，納米復合觸頭有分散電弧作用，表面沒有明顯的熔池和液體噴濺，呈現(xiàn)出較好的耐電弧侵蝕特性。

摘要:以CePO4與Ce-ZrO2等比例混合的含粘結劑的料漿為連接材料，在坯體狀態(tài)下無壓連接了可加工CePO4／Ce—ZrO2陶瓷與Ce-ZrO22陶瓷。對影響接點性能的工藝條件進行了討論，材料的燒成溫度和保溫時間會明顯影響連接效果，對25CePO4．Ce—ZrO2／Ce-ZrO2體系，在1450℃保溫120min左右時，可實現(xiàn)最佳的連接效果。接點SEM分析表明，25CePO4/Ce—ZrO2和Ce-ZrO2連接體系中可形成結構均勻的擴散接點區(qū)域，其微觀結構與母體材料的基本一致，接點的平均抗彎強度也與母體材料相似。用坯體無壓連接法適合復雜形狀本體或異體組合陶瓷構件，其工藝流程簡單，加工成本低廉。

摘要:以Sn-Zn合金為母合金，添加Ga元素，得到了新型的無鉛焊料合金。測量了其熔點、硬度、剪切強度和可焊性等性能。研究發(fā)現(xiàn)，Ga元素的添加使焊料的熔點降低，熔程增大。焊料的硬度和剪切強度有所降低。焊料的鋪展率增大，浸潤角減小，提高了焊料的可焊性。通過實驗研究確定了具有較好綜合性能的焊料的成分范圍。

摘要:采用熱壁化學氣相沉積工藝在Si(111)襯底上生長GaN晶體膜，并對其生長條件進行研究。用X射線衍射(XRD)、掃描電鏡(SEM)、熒光光譜(PL)對樣品進行結構、形貌和發(fā)光特性的分析。測試結果表明：用此方法得到了六方纖鋅礦結構的GaN晶體膜。實驗結果顯示：采用該工藝制備GaN晶體膜時，選擇H2作反應氣體兼載體，對GaN膜的形成起著非常有利的作用。

摘要:系統(tǒng)研究了 NiTi 形狀記憶合金表面電化學方法制備 HA 生物涂層過程中工藝參數(shù)對涂層相組成及其結構和形貌的影響,得出了最佳沉積規(guī)范,在該規(guī)范下沉積的涂層均由 CaHPO4·2H2O 組成,經(jīng)堿處理后完全轉變?yōu)?HA。所制備的 HA 涂層均勻致密,一定條件下涂層形貌由傳統(tǒng)的針狀轉變?yōu)槠瑢訝睢３醪教接懥?HA 涂層形貌發(fā)生轉變的機理。