2;涂層"/> 2涂層是鋁電解槽理想的陰極材料。本文以石墨為基體,在KF-KCl-K2TiF6-KBF4熔鹽中以0.4-0.7A.cm-2電流密度、700-800℃溫度電沉積TiB2涂層,通過XRD衍射儀、SEM-EDS、表面粗糙度測量儀及附著力測試儀對不同電流密度和溫度下制備的涂層進行表征。結(jié)果表明:在石墨基體上可以得到均勻連貫的TiB2涂層;增大電流密度、降低電解溫度可以細(xì)化涂層晶粒,提高涂層致密性;在0.6 A.cm-2、750℃最優(yōu)電沉積條件下制得的TiB2涂層的厚度為229 μm,擇優(yōu)取向為<110>,表面粗糙度為14.85 μm,涂層與石墨基體的結(jié)合力為6.39 MPa。"/>
1.東北大學(xué)多金屬共生礦生態(tài)化冶金教育部重點實驗室;2.六盤水師范學(xué)院化學(xué)與材料工程學(xué)院;3.東北大學(xué)軋制技術(shù)及連軋自動化國家重點實驗室
國家自然科學(xué)基金資助(項目號52074084)
郭不拘,薛正鐸,張元坤,牛子儒,劉愛民,李松,雷以柱,石忠寧. TiB2涂層熔鹽電沉積制備與表征[J].稀有金屬材料與工程,2024,53(2):449~456.[Guo Buju, Xue Zhengduo, Zhang Yuankun, Niu Ziru, Liu Aimin, Li Song, Lei Yizhu, Shi Zhongning. Preparation and characterization of TiB2 coating by molten salt electrodeposition[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2024,53(2):449~456.]
DOI:10.12442/j. issn.1002-185X.20230029