2O4等復(fù)合氧化物,中間層為Cr2O3、MoO2等氧化物。由于在氧化層與基體界面處形成連續(xù)致密的SiO2層,有效阻止Cr離子向外擴(kuò)散進(jìn)入氧化層,促進(jìn)Hastelloy N合金中間層形成較為致密的Cr2O3氧化層,提高了合金的抗氧化性能。"/>
1.中國科學(xué)院上海應(yīng)用物理研究所;2.重慶交通大學(xué)機(jī)電與汽車工程學(xué)院
TG146.1+5
國家自然科學(xué)基金資助(項(xiàng)目號(hào)51674237);超輕材料與表面技術(shù)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室
1.Shanghai Institute of Applied Physics,Chinese Academy of Sciences;2.School of Mechanotronics Vehicle Engineering,Chongqing Jiaotong University
郭偉杰,李建樹,陸燕玲,張繼祥,周興泰. Si對(duì)Hastelloy N合金氧化行為的影響[J].稀有金屬材料與工程,2019,47(3):885~891.[Guo Weijie, Li Jianshu, Lu Yanling, Zhang Jixiang, Zhou Xingtai. Effects of silicon on the oxidation behavior of Hastelloy N superalloy at 850℃[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2019,47(3):885~891.]
DOI:10.12442/j. issn.1002-185X.20170712