3: HF: H3PO4= 1: 1: 2,體積比)為適合的拋光試劑,拋光速率方程為h = 29.359 × t 0.9247,拋光6 ~ 15 min可移除厚度154 ~ 360 μm,表面粗糙度Ra小于0.65 μm,表面Nb2O5層厚度小于10 nm。同時,利用電子背散射電子衍射技術(shù)(EBSD)結(jié)合表面形貌討論了化學(xué)拋光機制,發(fā)現(xiàn)機加紋路消除后繼續(xù)延長拋光時間,晶粒內(nèi)高指數(shù)晶面(原子疏排面)會被優(yōu)先拋光,從而在晶界處形成較深的溝槽,在晶粒內(nèi)出現(xiàn)尖銳突起。"/>
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TG175.3
中國科學(xué)院先導(dǎo)專項基金資助(項目號XDA03020702)
China Academy of Engineering Physics,China Academy of Engineering Physics,China Academy of Engineering Physics,China Academy of Engineering Physics,China Academy of Engineering Physics,China Academy of Engineering Physics
陳向林,唐縣娥,法濤,鄒東利,白彬,蒙大橋.超導(dǎo)射頻腔用鈮材的表面化學(xué)拋光技術(shù)[J].稀有金屬材料與工程,2018,47(8):2472~2476.[Chen Xianglin, Tang Xian’e, Fa Tao, Zhou Dongli, Bai Bin, Meng Daqiao. Chemical Polishing of Niobium for Superconducting Radio Frequency Cavity[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2018,47(8):2472~2476.]
DOI:[doi]