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化學(xué)氣相沉積純鎢材料晶體生長(zhǎng)習(xí)性及其應(yīng)用性能研究
DOI:
作者:
作者單位:

國(guó)家鎢材料工程技術(shù)研究中心 廈門(mén)鎢業(yè)股份有限公司技術(shù)中心

作者簡(jiǎn)介:

通訊作者:

中圖分類(lèi)號(hào):

基金項(xiàng)目:

中國(guó)博士后科學(xué)基金第56批面上資助(項(xiàng)目號(hào)2014M561867)


The Study of the growth habits and application performance of tungsten crystal via Chemical Vapor Deposition
Author:
Affiliation:

China National RDdDdD Center for Tungsten Technology, Xiamen Tungsten Co. Ltd. Technology Center.

Fund Project:

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    摘要:

    化學(xué)氣相沉積(Chemical Vapor Deposition CVD)法可在較為簡(jiǎn)單的工藝條件下獲得高純、高致密的鎢涂層和制品,且具有很高的實(shí)用性,既能充分利用鎢材料優(yōu)異的機(jī)械、化學(xué)及物理性能,又能極大地縮短制造周期,提高生產(chǎn)效率。本研究結(jié)合CVD-W材料的實(shí)際應(yīng)用對(duì)其性能及組織結(jié)構(gòu)的要求,詳細(xì)討論了隨生長(zhǎng)階段的變化CVD-W表面生長(zhǎng)形貌-晶體尺寸-表面粗糙度變化特點(diǎn),獲得了CVD-W表面形貌-晶粒生長(zhǎng)尺寸-表面粗糙度三者與涂層厚度之間的關(guān)系,為CVD厚鎢材料應(yīng)用于高純鎢靶材行業(yè)提供了支持；重點(diǎn)研究了CVD-W涂層在高熱環(huán)境下的組織結(jié)構(gòu)變化特點(diǎn),為研究CVD-W應(yīng)用于高溫環(huán)境中可能發(fā)生的組織結(jié)構(gòu)和性能改變提供了借鑒。

    Abstract:

    The tungsten (W) parts and coating with High purity, fully dense are achieved by Chemical Vapor Deposition (CVD）with high efficiency. Based on its application requirements, the changing of surface morphology, grains size and surface roughness of CVD-W with different growth steps were studied and the relations of them were achieved. The behaviors of crystal structure of CVD-W in high temperature were observed.

    參考文獻(xiàn)
    相似文獻(xiàn)
    引證文獻(xiàn)
引用本文

呂延偉.化學(xué)氣相沉積純鎢材料晶體生長(zhǎng)習(xí)性及其應(yīng)用性能研究[J].稀有金屬材料與工程,2017,46(9):2499~2504.[LV Yanwei. The Study of the growth habits and application performance of tungsten crystal via Chemical Vapor Deposition[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2017,46(9):2499~2504.]
DOI：[doi]

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歷史
  • 收稿日期:2015-05-12
  • 最后修改日期:2015-07-28
  • 錄用日期:2015-10-13
  • 在線(xiàn)發(fā)布日期: 2017-11-29
  • 出版日期: