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微米厚U-Al薄片的擴(kuò)散連接
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作者單位:

中國(guó)工程物理研究院,表面物理與化學(xué)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,表面物理與化學(xué)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,中國(guó)工程物理研究院,中國(guó)工程物理研究院

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TG

基金項(xiàng)目:

國(guó)家重點(diǎn)基礎(chǔ)研究發(fā)展計(jì)劃“973”項(xiàng)目（2007CB613807）


Diffusion bonding of U-Al sheets with micrometers thick
Author:
Affiliation:

China Academy of Engineering Physics,Science and Technology on Surface Physics and Chemistry Laboratory,Science and Technology on Surface Physics and Chemistry Laboratory,China Academy of Engineering Physics,China Academy of Engineering Physics

Fund Project:

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    摘要:

    本文開展了不同溫度、壓力和時(shí)間條件下微米厚Al片和微米厚U片的真空熱壓擴(kuò)散連接實(shí)驗(yàn)，并對(duì)界面層進(jìn)行了顯微結(jié)構(gòu)分析、元素能譜分析和納米壓痕測(cè)試。實(shí)驗(yàn)獲得了U-Al機(jī)械結(jié)合無(wú)擴(kuò)散層的工藝參數(shù)：350 ℃/ 63 MPa/ 1 h。保溫1 h條件下，U-Al擴(kuò)散層均勻化的工藝參數(shù)為400 ℃/ 80 MPa，擴(kuò)散均勻情況下擴(kuò)散層成分主要是UAl2。

    Abstract:

    Diffusion bonding of micrometers thick U-Al sheets by hot pressing in vacuum was carried out under different temperatures, pressures and holding times. We have carried on the microscopic analysis, energy spectrum analysis and nanoindentation test to the bonding interface. The appropriate process parameters without diffusion layer were 350 ℃/ 63 MPa/ 1 h. Under the precondition of 1 h holding time, the process parameters for homogeneous diffusion layer were 400 ℃/ 80 MPa. The composition of homogeneous diffusion layer was mainly UAl2.

    參考文獻(xiàn)
    相似文獻(xiàn)
    引證文獻(xiàn)
引用本文

廖益?zhèn)?呂學(xué)超,張鵬程,任大鵬,郎定木.微米厚U-Al薄片的擴(kuò)散連接[J].稀有金屬材料與工程,2016,45(7):1898~1902.[liaoyichuan, lvxuechao, zhangpengcheng, rendapeng, langdingmu. Diffusion bonding of U-Al sheets with micrometers thick[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2016,45(7):1898~1902.]
DOI：[doi]

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歷史
  • 收稿日期:2014-06-06
  • 最后修改日期:2014-09-09
  • 錄用日期:2014-10-30
  • 在線發(fā)布日期: 2016-10-09
  • 出版日期: