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MOCVD方法制備BeH2薄膜
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等離子體物理國家級重點實驗室基金 (9140C6805020907)


Preparation of Beryllium Hydride Films by MOCVD
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    摘要:

    采用二叔丁基鈹 (t-Bu2Be·Et2O) 蒸氣在加熱的襯底上以熱解的方式制備透明的BeH2薄膜。通過加熱BeH2薄膜并借助氫氣氣相色譜儀探測到了薄膜釋放的H2。X射線光電子能譜分析表明，薄膜表面層幾乎完全被氧化成BeO。傅里葉變換紅外光譜顯示存在強烈的BeHBe鍵彎曲振動吸收峰。因此，二叔丁基鈹在加熱的基片上以分解的方式能夠制備出BeH2薄膜

    Abstract:

    Transparent beryllium hydride (BeH2) films were prepared by the pyrolysis of di-t-butylberyllium etherate (t-Bu2Be·Et2O) under low pressure using metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) apparatus. The films were heated to 300 ℃ for dehydrogenation, and the released H2 was detected by gas chromatography. The XPS analysis shows that the surface layer of BeH2 film is BeO. The IR spectrum indicates that there exists Be-H-Be bend vibration

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    相似文獻
    引證文獻
引用本文

張吉強,羅江山,羅炳池,吳衛(wèi)東. MOCVD方法制備BeH2薄膜[J].稀有金屬材料與工程,2012,41(8):1483~1486.[Zhang Jiqiang, Luo Jiangshan, Luo Bingchi,,Wu Weidong. Preparation of Beryllium Hydride Films by MOCVD[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2012,41(8):1483~1486.]
DOI：[doi]

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  • 收稿日期:2011-08-25
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