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TiO2納米孔結(jié)構(gòu)的XPS研究
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國家自然科學(xué)基金(50431010)；香港理工大學(xué)科研基金（BB90）


XPS Study on Nanoporpous Structured TiO2
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    摘要:

    采用表面機(jī)械研磨處理技術(shù) (Surface mechanical attrition treatment，SMAT)在工業(yè)純Ti的表面制備出一層厚度約30 mm納米結(jié)構(gòu)表層，最表層的平均晶粒尺寸約30 nm。隨后在常溫(25 ℃)下對(duì)其進(jìn)行雙氧水及400 ℃煅燒處理，并采用X射線光電子能譜(XPS)等手段進(jìn)行了逐層結(jié)構(gòu)分析。結(jié)果表明，SMAT Ti表面與粗晶Ti表層形成的氧化層結(jié)構(gòu)存在明顯差別

    Abstract:

    A naocrystalline layer (thickness of about 30 μm) was prepared by surface mechanical attrition treatment (SMAT) on commercial pure Ti, and the mean grain size on top-surface was about 30 nm. The SMAT Ti was then treated by immersing in H2O2 solution at 25 oC followed by calcination at 400 °C for 1 h. XPS was used to analyze the SMAT Ti structure layer by layer. The results show that obvious differences of the oxidation layer structure exist between SMAT Ti and CG (coarse grain) counterpart

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引用本文

顧劍鋒,聞 明,劉 剛,呂 堅(jiān). TiO2納米孔結(jié)構(gòu)的XPS研究[J].稀有金屬材料與工程,2011,40(3):523~525.[Gu Jianfeng, Wen Ming, Liu Gang, Lü Jian. XPS Study on Nanoporpous Structured TiO2[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2011,40(3):523~525.]
DOI：[doi]

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歷史
  • 收稿日期:2010-10-02
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