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用于濺射靶材的高純釕粉的制備工藝初步研究
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作者單位:

蘭州大學(xué),蘭州大學(xué)

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Preliminary Study on the Process for Producing High-Purity Ruthenium used for sputtering target
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Lanzhou University,Lanzhou University

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引用本文

章德玉,劉偉生.用于濺射靶材的高純釕粉的制備工藝初步研究[J].稀有金屬材料與工程,2016,45(5):1353~1356.[zhangdeyu, liuweisheng. Preliminary Study on the Process for Producing High-Purity Ruthenium used for sputtering target[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2016,45(5):1353~1356.]
DOI：[doi]

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歷史
  • 收稿日期:2009-11-16
  • 最后修改日期:2010-04-02
  • 錄用日期:2011-06-14
  • 在線發(fā)布日期: 2016-06-02
  • 出版日期: