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用正電子湮沒技術(shù)研究Cr和Nb對TiAl合金中缺陷和d-d電子相互作用的影響
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國家自然科學基金項目(50361002);廣西科學研究與技術(shù)開發(fā)計劃項目(桂科攻0480004)和廣西大學科學技術(shù)研究重點項目(2003ZD04)資助


Influence of Cr and Nb on Defects and d-d Electron Interactions in TiAl Alloys Researched by Positron Annihilation Techniques
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    摘要:

    測量Al, Si, Ti, Cr, Nb 等純元素以及Ti50Al50, Ti50Al48Cr2, Ti50Al48Nb2合金的符合正電子湮沒輻射多普勒展寬譜和壽命譜,獲得金屬及合金中d電子和缺陷的信息。結(jié)果表明,二元TiAl合金的電子密度和3d電子的信號較低,晶界缺陷的開空間較大。在TiAl合金中加入Cr或Nb,合金中的d-d電子作用增強,基體和晶界處的電子密度均增加。Ti50Al48Cr2 合金的多普勒展寬譜的d 電子信號高于Ti50Al48Nb2 合金。討論了Cr和Nb對TiAl合金中缺陷和d-d電子相互作用的影響

    Abstract:

    The positron lifetime and coincidence Doppler broadening spectra have been measured in pure Al, Si, Ti, Cr, Nb elements and Ti50Al50, Ti50Al48Cr2, Ti50Al48Nb2 alloys. It has been found that the 3d electron signal and the electron density for binary TiAl alloy are relative low due to the Ti 3d-Al 3p interactions. The addition of Cr and Nb atoms to TiAl alloy leads to the increase of electron densities in the bulk and grain boundaries simultaneously as well as the enhancement of d-d electron interactions. The d electron signal in the spectrum of Ti50Al48Cr2 alloy is higher than that of Ti50Al48Nb2 alloy. The effects of Cr and Nb on the d electrons of TiAl alloys have been discussed

    參考文獻
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引用本文

?,摤?鄧 文,孫順平,江海峰,黃宇陽,曹名洲,熊良鉞.用正電子湮沒技術(shù)研究Cr和Nb對TiAl合金中缺陷和d-d電子相互作用的影響[J].稀有金屬材料與工程,2009,38(2):271~274.[Zhu Yingying, Deng Wen, Sun Shunping, Jiang Haifeng, Huang Yuyang, Cao Mingzhou, Xiong Liangyue. Influence of Cr and Nb on Defects and d-d Electron Interactions in TiAl Alloys Researched by Positron Annihilation Techniques[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2009,38(2):271~274.]
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歷史
  • 收稿日期:2008-01-19
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