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鈦基氧化物電極伏安曲線的Monte Carlo模擬
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O646

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國家自然科學(xué)基金 , 山西省自然科學(xué)基金


Monte Carlo Simulation of Voltammogram on Ti/MO2 Electrode
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    運用Weierstrass-Mandelbrot函數(shù)構(gòu)建了鈦基氧化物電極(Ti/MO2)的分形表面,采用Monte Carlo方法對電極的伏安曲線進行了模擬,主要考察了掃描速率和分形維數(shù)對伏安曲線的影響.結(jié)果表明:在分形維數(shù)一定的情況下,隨著掃描速率的不同,峰電勢不發(fā)生變化,峰電流與掃描速率的平方根呈線性關(guān)系:隨著分形維數(shù)的增大,峰電流增大,電極的電催化性能增強.模擬結(jié)果與理論一致.分形維數(shù)與Monte Carlo模擬的結(jié)合可為鈦基氧化物電極的深入研究提供一種新思路.

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引用本文

梁鎮(zhèn)海,王榮鵬,石文平,李曉林.鈦基氧化物電極伏安曲線的Monte Carlo模擬[J].稀有金屬材料與工程,2008,37(4):609~612.[Liang Zhenhai, Wang Rongpeng, Shi Wenping, Li Xiaolin. Monte Carlo Simulation of Voltammogram on Ti/MO2 Electrode[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2008,37(4):609~612.]
DOI：[doi]

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  • 最后修改日期:2007-03-31
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