最新色国产精品精品视频,中文字幕日韩一区二区不卡,亚洲有码转帖,夜夜躁日日躁狠狠久久av,中国凸偷窥xxxx自由视频

+高級(jí)檢索
中頻反應(yīng)磁控濺射制備Al2O3:Ce薄膜及其光致發(fā)光特性
DOI:
作者:
作者單位:

作者簡(jiǎn)介:

通訊作者:

中圖分類號(hào):

TB43

基金項(xiàng)目:

國(guó)家自然科學(xué)基金


Preparation and Luminescent Property of Al2O3:Ce Thin Films by Medium Frequency React Magnetron Sputtering
Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
    • |
  • 圖/表
    • |
  • 訪問(wèn)統(tǒng)計(jì)
    • |
  • 參考文獻(xiàn)
    • |
  • 相似文獻(xiàn)
    • |
  • 引證文獻(xiàn)
    • |
  • 資源附件
    • |
  • 文章評(píng)論
    摘要:

    用中頻反應(yīng)磁控濺射技術(shù)制備了Al2O3:Ce3 的非晶薄膜.XPS監(jiān)測(cè)顯示,薄膜中有Ce3 生成.這些薄膜的光致發(fā)光峰是在374 nm附近,它來(lái)自于Ce3 離子的5d1激發(fā)態(tài)向基態(tài)4f1的兩個(gè)劈裂能級(jí)的躍遷.發(fā)光強(qiáng)度強(qiáng)烈地依賴于薄膜的摻雜濃度,但發(fā)光峰位置不隨摻雜濃度而變化.Ce3 含量和薄膜的化學(xué)成分是通過(guò)X射線散射能譜(EDS)測(cè)量的.薄膜試樣的晶體結(jié)構(gòu)應(yīng)用X射線衍射分析.俄歇電子譜用于對(duì)薄膜材料的化學(xué)組分進(jìn)行定性分析.發(fā)射純藍(lán)光的Al2O3:Ce3 非晶薄膜在平板顯示等領(lǐng)域有著廣泛的潛在應(yīng)用前景.

    Abstract:

    參考文獻(xiàn)
    相似文獻(xiàn)
    引證文獻(xiàn)
引用本文

廖國(guó)進(jìn),巴德純,聞立時(shí),朱振華,劉斯明.中頻反應(yīng)磁控濺射制備Al2O3:Ce薄膜及其光致發(fā)光特性[J].稀有金屬材料與工程,2008,37(3):490~494.[Liao Guojin, Ba Dechun, Wen Lishi, Zhu Zhenhua, Liu Siming. Preparation and Luminescent Property of Al2O3:Ce Thin Films by Medium Frequency React Magnetron Sputtering[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2008,37(3):490~494.]
DOI：[doi]

復(fù)制
文章指標(biāo)
  • 點(diǎn)擊次數(shù):
  • 下載次數(shù):
  • HTML閱讀次數(shù):
  • 引用次數(shù):
歷史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:2007-02-18
  • 錄用日期:
  • 在線發(fā)布日期:
  • 出版日期: