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氫化鋯表面原位氧化法制備氫滲透阻擋層的研究
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TG174.4

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Study on Hydrogen Permeation Barrier on the Surface of Zirconium Hydride by Oxidation in Situ
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    摘要:

    采用原位氧化法在氫化鋯表面制備了氫滲透阻擋層，分析了工藝參數(shù)對氧化層生長的影響，借助XRD，XPS，SEM等分析測試手段對氧化層的物相組成和截面形貌進(jìn)行分析，并對氧化層的阻氫效果進(jìn)行檢測。結(jié)果表明，氧化層的質(zhì)量增量隨氧化溫度的升高而增大，在氧分壓為0．1MPa，550℃恒溫氧化2h的工藝條件下，在氫化鋯表面制得了厚度為50～60um的氧化層；該氧化層主要為Baddeleyite結(jié)構(gòu)的ZrO2；氧化層中含有O，Zr，C等元素并存在O-H鍵；氧化層均勻、致密，具有一定的阻氫作用。

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引用本文

陳偉東 韓琳 張力 黃永章 王力軍 陳松.氫化鋯表面原位氧化法制備氫滲透阻擋層的研究[J].稀有金屬材料與工程,2007,36(10):1848~1850.[Chen Weidong, Han Lin, Zhang Li, Huang Yongzhang, Wang Lijun, Chen Song. Study on Hydrogen Permeation Barrier on the Surface of Zirconium Hydride by Oxidation in Situ[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2007,36(10):1848~1850.]
DOI：[doi]

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  • 最后修改日期:2006-09-25
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