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不同偏壓下利用多弧離子鍍技術(shù)在U基體上制備了TiN薄膜。利用X射線衍射（XRD）分析了薄膜的微觀組織結(jié)構(gòu)，用掃描電鏡（SEM）觀察其表面形貌。結(jié)果表明：所得薄膜為單一TiN結(jié)構(gòu)，薄膜表面平整、致密，但局部仍存在大顆粒。摩擦磨損實(shí)驗(yàn)測定了薄膜的磨損性能。隨偏壓的上升，摩擦系數(shù)由0．421變?yōu)?．401。同時利用X射線光電子能譜分析儀（XPS）對濕熱腐蝕20d后的樣品進(jìn)行了分析，并利用電化學(xué)極化實(shí)驗(yàn)在0．5μg/g CT溶液中測試了基體及薄膜耐蝕性能。結(jié)果表明：TiN涂層提高了貧鈾的抗腐蝕性能。