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Zr-4合金的陽極氧化膜與高壓釜預(yù)生膜對比研究
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TG146.4

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Study on the Anodic Oxide Film and Autoclaved Oxide Film of Zircaloy-4
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    摘要:

    利用電化學(xué)極化曲線測量、氧化增重測量、往復(fù)式摩擦磨損實(shí)驗,對分別通過陽極氧化和高壓釜氧化生成的2種不同Zr-4合金表面氧化膜的耐腐蝕、耐高溫氧化和抗摩擦性能進(jìn)行測試和對比評價.實(shí)驗表明,2種氧化膜都有效地改善了Zr-4合金的性能（耐腐蝕,耐高溫氧化等）,它們對Zr-4合金的改善程度相近.XRD,XPS,RBS,SEM等方法分析表明,陽極氧化膜厚度約1μm,分為疏松水合層和ZrO2致密層2部分,ZrO2由四方相和單斜相組成;高壓釜預(yù)生膜厚度約0.9μm,分為最外H2O層、疏松水合層和ZrO2致密層3部分,ZrO2只以單斜相存在.研究結(jié)果為現(xiàn)行核工業(yè)中對Zr-4合金的預(yù)處理方法提供了一個新的思路.

    Abstract:

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引用本文

李娟 白新德 張岱嵐. Zr-4合金的陽極氧化膜與高壓釜預(yù)生膜對比研究[J].稀有金屬材料與工程,2006,35(6):1002~1005.[Li Juan, Bai Xinde, Zhang Dailan. Study on the Anodic Oxide Film and Autoclaved Oxide Film of Zircaloy-4[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2006,35(6):1002~1005.]
DOI：[doi]

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歷史
  • 收稿日期:2005-07-05
  • 最后修改日期:2005-07-05
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