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脈沖直流PCVD制備新型Ti-Si-C-N納米復(fù)合超硬薄膜
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TB383

基金項(xiàng)目:

國家自然科學(xué)基金項(xiàng)目（50271053,50371067）,973計(jì)劃項(xiàng)目（2004CB619302）和國家自然科學(xué)基金委重大國際合作項(xiàng)目（50420130033）資助


New Super Hard Ti-Si-C-N Nanocomposite Coatings Deposited by Pulsed DC Plasma CVD
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    摘要:

    用工業(yè)型脈沖直流等離子體化學(xué)氣相沉積（PCVD）設(shè)備，在高速鋼（W18Cr4V）基材表面沉積新型四元Ti-Si-C-N復(fù)合超硬薄膜。結(jié)果表明：Ti-Si-C-N薄膜是由面心立方結(jié)構(gòu)的TiN和TiC納米晶、Ti（C，N）固溶體及存在于晶界的非晶Si3N4和α-C組成，形成TiN／TiC／Ti（C，N）／α-C／α-Si3N,復(fù)相結(jié)構(gòu)，這種復(fù)相結(jié)構(gòu)存在著[111]，[220]和[200]混合擇優(yōu)取向。SiCl4和CH4流量變化是影響薄膜相組成和硬度變化的主要工藝參數(shù)。隨Si含量的增加，薄膜的顯微硬度先升后降，表面形貌由致密的細(xì)顆粒狀變?yōu)榇执蟮闹l狀；C元素的加入能抑制柱狀晶的形成，對硬度影響較小。

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引用本文

暢庚榕 郭巖 馬勝利 徐可為.脈沖直流PCVD制備新型Ti-Si-C-N納米復(fù)合超硬薄膜[J].稀有金屬材料與工程,2006,35(5):824~827.[Chang Gengrong, Guo Yan, Ma Shengli, Xu Kewei. New Super Hard Ti-Si-C-N Nanocomposite Coatings Deposited by Pulsed DC Plasma CVD[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2006,35(5):824~827.]
DOI：[doi]

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歷史
  • 收稿日期:2005-03-14
  • 最后修改日期:2005-11-09
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  • 出版日期: