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金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積法制備銥涂層的形貌與結(jié)構(gòu)分析
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中圖分類(lèi)號(hào):

TG146.34

基金項(xiàng)目:

國(guó)家高技術(shù)研究發(fā)展計(jì)劃（“863”計(jì)劃）項(xiàng)目（2002AA305306）


Structural and Morphological Characterization of Iridium Coatings Grown by MOCVD
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    摘要:

    采用金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積法，在不通入活性氣體的條件下，研究了三乙酰丙酮銥先驅(qū)體揮發(fā)溫度對(duì)銥涂層顯微結(jié)構(gòu)的影響。在500℃的金屬鈮和陶瓷石英基片上制備出亮銀白色的多晶相銥涂層。分析表明：鈮和石英基片上沉積的銥涂層均由兩層不同結(jié)構(gòu)的薄膜構(gòu)成，220℃揮發(fā)先驅(qū)體沉積出由納米級(jí)顆粒疏松堆積構(gòu)成的涂層，185℃揮發(fā)先驅(qū)體沉積出致密的涂層。銥涂層表面光滑均勻，無(wú)明顯缺陷。

    Abstract:

    參考文獻(xiàn)
    相似文獻(xiàn)
    引證文獻(xiàn)
引用本文

楊文彬 張立同 成來(lái)飛 華云峰 張鈞.金屬有機(jī)物化學(xué)氣相沉積法制備銥涂層的形貌與結(jié)構(gòu)分析[J].稀有金屬材料與工程,2006,35(3):488~491.[Yang Wenbin, Zhang Litong, Cheng Laifei, Hua Yunfeng, Zhang Jun. Structural and Morphological Characterization of Iridium Coatings Grown by MOCVD[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2006,35(3):488~491.]
DOI：[doi]

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歷史
  • 收稿日期:2004-12-27
  • 最后修改日期:2004-12-27
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  • 出版日期: