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紫外光截止鍍膜玻璃的射頻磁控濺射法制備及表征
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O647

基金項(xiàng)目:

863項(xiàng)目（2002AA335030）


Structure and UV-Shielding Properties of TiO2-CeO2 Films Deposited on Soda-Lime Silicate Glass Substrates by R.F. Magnetron Sputtering
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    摘要:

    制備了摩爾比為1：1的TiO2和CeO2陶瓷靶材。采用射頻磁控濺射法在O2和Ar比例為5：95的混合氣體中制備了玻璃基TiO2-CeO2薄膜。濺射過程中，工作氣壓保持在1．8Pa不變，玻璃基片溫度從室溫（RT）～220℃之間變化。用x射線衍射（XRD）、X射線光電子能譜（XPS）、掃描電鏡（SEM）、透射電鏡（TEM）和紫外-可見光譜儀研究了薄膜的物相結(jié)構(gòu)、表面組成、表面形貌和鍍膜試樣的紫外-可見光透過率。結(jié)果表明，薄膜表面結(jié)構(gòu)平滑、致密，呈微小晶粒結(jié)構(gòu)，薄膜中Ti和Ce僅以Ti^4＋和Ce^4＋的形式存在；隨著基片溫度升高，薄膜中的細(xì)小晶粒略有長大；TiO2-CeO2鍍膜玻璃可以有效地截止紫外線。

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引用本文

趙青南 倪佳苗 張乃芝 趙修建 姜宏 王桂榮.紫外光截止鍍膜玻璃的射頻磁控濺射法制備及表征[J].稀有金屬材料與工程,2006,35(1):142~145.[Zhao Qingnan, Ni Jiamiao, Zhang Naizhi, Zhao Xiujian, Jiang Hong, Wang Guirong. Structure and UV-Shielding Properties of TiO2-CeO2 Films Deposited on Soda-Lime Silicate Glass Substrates by R. F. Magnetron Sputtering[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2006,35(1):142~145.]
DOI：[doi]

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歷史
  • 收稿日期:2004-05-31
  • 最后修改日期:2005-02-20
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