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TiO2光催化納米薄膜的晶化處理
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The Crystallization Heat-Treatment of the TiO2 Photocatalytic Nanofilm
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    TiO2光催化納米薄膜在400℃～80℃溫內(nèi)恒溫退火1h-2h，以消除膜內(nèi)非晶，提高薄膜光催化活性。熱處理前后試樣的檢測結(jié)果表明：退火使TiO2薄膜內(nèi)非晶晶化，晶粒長大，光響應(yīng)電流增大。隨退火溫度的升高，TiO2薄膜出現(xiàn)由非晶斗銳鈦礦斗金紅石的轉(zhuǎn)變。其中，600℃退火1h的TiO2薄膜為銳鈦礦加金紅石的混晶結(jié)構(gòu)，光電流密度最大Iuv=41．2A／m^2，光催化活性最好。

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引用本文

張玉娟 沈嘉年. TiO2光催化納米薄膜的晶化處理[J].稀有金屬材料與工程,2006,35(1):92~95.[Zhang Yujuan, Shen Jianian. The Crystallization Heat-Treatment of the TiO2 Photocatalytic Nanofilm[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2006,35(1):92~95.]
DOI：[doi]

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  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:2005-03-04
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