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濺射態(tài)原位加熱NiTi形狀記憶合金薄膜的結(jié)構(gòu)性能研究
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TG146

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上海市應(yīng)用材料研究與發(fā)展基金（0315）


Structure and Performance of NiTi Shape Memory Alloy Thin Films Sputter-Deposited by Situ Heating
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    摘要:

    研究了原位加熱濺射的NiTi形狀記憶合金薄膜的結(jié)構(gòu)，討論了制備工藝及織構(gòu)對薄膜相變特征的影響，采用電阻法及X射線衍射分析了薄膜的結(jié)構(gòu)及相變過程，確定了最適合于微器件的濺射工藝。結(jié)果發(fā)現(xiàn)：濺射時采用原位加熱可直接獲得具有織構(gòu)的晶化薄膜，提高濺射功率將使薄膜的相變溫度升高。

    Abstract:

    參考文獻
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引用本文

袁振宇 徐東 劉毓舒 蔡炳初.濺射態(tài)原位加熱NiTi形狀記憶合金薄膜的結(jié)構(gòu)性能研究[J].稀有金屬材料與工程,2006,35(11):1800~1802.[Yuan Zhenyu, Xu Dong, Liu Yushu, Cai Bingchu. Structure and Performance of NiTi Shape Memory Alloy Thin Films Sputter-Deposited by Situ Heating[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2006,35(11):1800~1802.]
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歷史
  • 收稿日期:2005-10-28
  • 最后修改日期:2005-10-28
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  • 在線發(fā)布日期:
  • 出版日期: