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熱處理對(duì)TiO2濺射薄膜結(jié)構(gòu)和光譜性能的影響
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中圖分類號(hào):

TG146.4

基金項(xiàng)目:

國(guó)家“863”項(xiàng)目（2003lg0034）


The Effect of the d-Electron Transition on UV-Vis Spectra and PL Spectra of TiO2 Films
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    摘要:

    用直流反應(yīng)磁控濺射法制備了TiO2薄膜,并對(duì)熱處理前后試樣的紫外可見光譜（UV-Vis spectrum）和熒光發(fā)射光譜（PL Spectrunm）做了研究。發(fā)現(xiàn)熱處理后試樣的紫外可見光譜在496nm處出現(xiàn)了一個(gè)較為明顯的吸收峰，熒光發(fā)射光譜496．5nm處出現(xiàn)一個(gè)熒光發(fā)射帶肩。X射線光電予能譜（XPS）的分析結(jié)果表明，熱處理可使薄膜中晶格氧擴(kuò)散出去，生成Ti^3＋離子和氧空位。結(jié)合XPS的分析結(jié)果和理論計(jì)算，可推斷熱處理后出現(xiàn)的位于496nm處的吸收峰和496．5nm處的熒光帶肩可被指認(rèn)為薄膜中Ti^3＋離子的d電子躍遷產(chǎn)生。

    Abstract:

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引用本文

劉保順 何鑫 趙修建 趙青南.熱處理對(duì)TiO2濺射薄膜結(jié)構(gòu)和光譜性能的影響[J].稀有金屬材料與工程,2005,34(9):1451~1454.[Liu BaoShun;He Xin;Zhao XiuJian;Zhao QingNa. The Effect of the d-Electron Transition on UV-Vis Spectra and PL Spectra of TiO2 Films[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(9):1451~1454.]
DOI：[doi]

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歷史
  • 收稿日期:2004-03-30
  • 最后修改日期:2004-10-28
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  • 出版日期: