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鈦表面沉積Fe-Pd磁性薄膜的研究
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中圖分類號(hào):

TG146.23

基金項(xiàng)目:

國(guó)家自然基金課題（30470486/C010515）


The Diffusion Mechanism of Fe-Pd Films Deposited on TA1
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    摘要:

    采用電弧離子鍍?cè)O(shè)備，以高純Fe靶和Pd靶為原料，在TA1工業(yè)純鈦表面先后沉積Fe，Pd2層單金屬薄膜。對(duì)樣品分別進(jìn)行700℃～1100℃，保溫0．5h～3h的真空退火處理，使Fe膜和Pd膜之間形成擴(kuò)散層，制備FePd磁性膜。重點(diǎn)研究了Fe，Pd及鈦襯底之間的百擴(kuò)散機(jī)制，膜層結(jié)構(gòu)，薄膜的相組成。結(jié)果表明：在700℃，0．5h處理后FePd薄膜的合金化較好：在900℃，1h處理后雖有FePd相形成，但基體中的Ti已經(jīng)擴(kuò)散至表面：溫度高于900℃且保溫時(shí)間長(zhǎng)于1h處理，不利于FePd膜的形成。

    Abstract:

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引用本文

馬波 王克光 李爭(zhēng)顯 周廉 程何祥.鈦表面沉積Fe-Pd磁性薄膜的研究[J].稀有金屬材料與工程,2005,34(8):1341~1344.[Ma Bo;Wang KeGuang;Li ZhengXian;Zhou Lian;Cheng HeXiang. The Diffusion Mechanism of Fe-Pd Films Deposited on TA1[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(8):1341~1344.]
DOI：[doi]

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歷史
  • 收稿日期:2003-12-08
  • 最后修改日期:2005-04-20
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  • 出版日期: