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TiAlCrFeSiBN多元膜的性能與組織結(jié)構(gòu)研究
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中圖分類號(hào):

TG146.23

基金項(xiàng)目:

廣東省教育廳重點(diǎn)扶持學(xué)科項(xiàng)目(980012)


Study on Performance and Microstructure of TiAlCrFeSiBN Films
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    摘要:

    采用電弧離子鍍技術(shù)、TC7雙相鈦合金靶沉積TiAlCrFeSiBN薄膜，研究了這種多元膜的顯微硬度、高溫氧化性能和組織結(jié)構(gòu)。結(jié)果表明：這種多元膜具有優(yōu)于TiN膜的顯微硬度；具有不同于TiN膜的顯微組織，其最顯著的特征是存在較多細(xì)小的鈦滴，這些鈦滴與膜之間的融合效果很好；膜層上孔隙較少；具有TiN的面心立方結(jié)構(gòu)，與TiN膜相比，具有更加明顯的擇優(yōu)取向趨勢(shì)。

    Abstract:

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引用本文

謝致薇 王國慶 楊元政 匡同春 白曉軍 謝光榮 胡社軍. TiAlCrFeSiBN多元膜的性能與組織結(jié)構(gòu)研究[J].稀有金屬材料與工程,2005,34(4):648~652.[Xie Zhiwei, Wang Guoqing, Yang Yuanzheng, Kuang Tongchun, Bai Xiaojun, Xie Guangrong, Hu Shejun. Study on Performance and Microstructure of TiAlCrFeSiBN Films[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(4):648~652.]
DOI：[doi]

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歷史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:2003-08-12
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