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采用CVD（Chemical Vapor Deposition）法沉積的鎢涂層有[100]／[111]／[110]擇優(yōu)取向。擇優(yōu)取向主要受氣體組分、流動速度、溫度等因素的影響。研究了鉬基體上CVD鎢涂層的表面形貌和織構(gòu)、涂層界面的元素分布、涂層的抗熱震性能及高溫擴散性能。結(jié)果顯示：鎢涂層與基體鉬有2μm左右的互擴散層且鉬在鎢中的擴散速度更高；涂層在通H2條件下，進行室溫→1400℃→室溫20次循環(huán)后涂層不脫落、界面沒有明顯變化，涂層結(jié)合力好；涂層界面上的雜質(zhì)元素氧等影響涂層的結(jié)合性能。