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TiNi合金表面TiO2薄膜的制備及光充電性能
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中圖分類號(hào):

O649.4

基金項(xiàng)目:

國家自然科學(xué)基金（50201016）和浙江省自然科學(xué)基金（Y404044）


Preparation and Photo-Rechargeable Properties of TiO2 Film Thermally Formed on Surface of TiNi Alloys
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    摘要:

    采用熱氧化方法在TiNi合金表面制備了TiO2薄膜，并考察了TiO2／TiNi電極在KOH溶液中的光電化學(xué)性能。結(jié)果表明，TiNi貯氫合金表面形成的TiO2薄膜為金紅石型，結(jié)晶度隨氧化溫度升高逐漸增大；TiO2薄膜結(jié)構(gòu)、光電流和界面阻抗之間存在良好的相關(guān)性，700℃制備的TiO2薄膜光響應(yīng)電流最大，電極阻抗譜與鎳氫電池體系合金負(fù)極阻抗特征相似，高頻區(qū)半圓對應(yīng)于吸附氫的形成，而低頻區(qū)Warburg線性關(guān)系則反映了氫在電極中的固態(tài)擴(kuò)散過程；在光照射下具有特殊的光充電貯氫性能，放電容量從暗態(tài)時(shí)的5mAh／g提高至光照時(shí)的15mAh／g，對光充電反應(yīng)機(jī)理作了初步分析。

    Abstract:

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引用本文

黃輝 張文魁 甘永平 梁志宏. TiNi合金表面TiO2薄膜的制備及光充電性能[J].稀有金屬材料與工程,2005,34(12):1890~1893.[Huang Hui, Zhang Wenkui, Gan Yongping, Liang Zhihong. Preparation and Photo-Rechargeable Properties of TiO2 Film Thermally Formed on Surface of TiNi Alloys[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(12):1890~1893.]
DOI：[doi]

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歷史
  • 收稿日期:2004-09-06
  • 最后修改日期:2005-03-24
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  • 出版日期: