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磁控濺射制備Ti-Si-N納米薄膜的摩擦磨損性能
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中圖分類(lèi)號(hào):

TG174.44

基金項(xiàng)目:

國(guó)家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(50271053,50371067),國(guó)家自然科學(xué)基金委重大國(guó)際合作項(xiàng)目(50420130033),科技部973重大基礎(chǔ)研究計(jì)劃項(xiàng)目(2004CB619302)以及教育部新世紀(jì)優(yōu)秀人才支持計(jì)劃項(xiàng)目(NCET-04-0934)


Tribological Characterization of Ti-Si-N Nano Films Prepared by Reactive Magnetic Sputtering
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    摘要:

    采用磁控濺射方法在1Cr18Ni9Ti不銹鋼基體上沉積Ti-Si-N納米薄膜。結(jié)果發(fā)現(xiàn):隨著Si含量增加,薄膜的晶粒尺寸逐漸變小,晶粒尺寸范圍在3nm~20nm之間。薄膜的顯微硬度相對(duì)于TiN有明顯增加,最大硬度可達(dá)43.5GPa。Si元素的加入亦改善了膜基結(jié)合強(qiáng)度。同時(shí)發(fā)現(xiàn),Ti-Si-N納米薄膜的摩擦系數(shù)和比磨損率隨著Si含量的增加先減小后增加,其高溫摩擦系數(shù)明顯低干常溫,但比磨損率卻有顯著提高。

    Abstract:

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引用本文

牛新平 王昕 馬勝利 徐可為 劉維民.磁控濺射制備Ti-Si-N納米薄膜的摩擦磨損性能[J].稀有金屬材料與工程,2005,34(12):1882~1885.[Niu Xinping, Wang Xin, Ma Shengli, Xu Kewei, Liu Weimin. Tribological Characterization of Ti-Si-N Nano Films Prepared by Reactive Magnetic Sputtering[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(12):1882~1885.]
DOI:[doi]

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歷史
  • 收稿日期:2004-02-09
  • 最后修改日期:2005-06-03
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  • 出版日期: