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Ti-Si-N納米復(fù)合超硬薄膜的高溫?zé)岱€(wěn)定性
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TG146.4

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Thermal Stability of Ti-Si-N Super Hard Nanocomposite Coatings
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    摘要:

    用脈沖直流等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PCVD）方法在高速鋼（HSS）基體上制備了Ti—Si-N薄膜，重點(diǎn)從不同溫度退火后薄膜相結(jié)構(gòu)、晶粒尺寸和顯微硬度的變化等方面，探討了不同Si含量的Ti-Si-N薄膜的高溫?zé)岱€(wěn)定性。結(jié)果表明：Ti-Si-N薄膜在900℃以內(nèi)退火處理后，晶粒尺寸和顯微硬度并無(wú)明顯突變，尤其是Si含量較低時(shí)，在800℃，晶粒尺寸和顯微硬度幾乎沒(méi)有變化，表明Ti-Si-N薄膜具有非常良好的高溫?zé)岱€(wěn)定性，這可能與薄膜相形成在高溫下仍為調(diào)幅分解有關(guān)。

    Abstract:

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引用本文

徐建華 馬大衍 馬勝利 徐可為. Ti-Si-N納米復(fù)合超硬薄膜的高溫?zé)岱€(wěn)定性[J].稀有金屬材料與工程,2005,34(11):1778~1781.[Xu Jianhua, Ma Dayan, Ma Shengli, Xu Kewei. Thermal Stability of Ti-Si-N Super Hard Nanocomposite Coatings[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(11):1778~1781.]
DOI：[doi]

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歷史
  • 收稿日期:2004-07-12
  • 最后修改日期:2005-07-28
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