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陰極電弧離子沉積TiN／Ti鍍層腐蝕特性
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TG174

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Corrosion Behavior of the Vacuum Cathodic Arc, Deposited TiN/Ti Coatings
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    采用電化學線性極化、交流阻抗譜技術研究了不同基片偏壓上陰極電弧沉積TiN/Ti鍍層在50×10-6g/gCl-溶液中的腐蝕行為,并對鍍層腐蝕的機理進行了探討。結果表明:基片偏壓–400V時,鍍層耐蝕性能好;鍍層表面的針孔是誘發(fā)鍍層和基材體系發(fā)生點蝕、電偶腐蝕的主要缺陷。

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引用本文

鮮曉斌,王慶富,劉柯釗,劉清和.陰極電弧離子沉積TiN／Ti鍍層腐蝕特性[J].稀有金屬材料與工程,2005,34(11):1774~1777.[Xian Xiaobin, Wang Qingfu, Liu Kezhao, Liu Qinghe. Corrosion Behavior of the Vacuum Cathodic Arc, Deposited TiN/Ti Coatings[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(11):1774~1777.]
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歷史
  • 收稿日期:2003-12-26
  • 最后修改日期:2005-07-20
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