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Ti-Si-N納米復(fù)合薄膜的結(jié)構(gòu)與性能
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TG174.44

基金項(xiàng)目:

國(guó)家自然科學(xué)基金項(xiàng)目(50271053,50371067),國(guó)家自然科學(xué)基金委重大國(guó)際合作項(xiàng)目(50420130033),科技部“973”重大基礎(chǔ)研究計(jì)劃項(xiàng)目(2004CB619302)以及教育部新世紀(jì)優(yōu)秀人才支持計(jì)劃項(xiàng)(NCET-04-0934)的共同支持


Structure and Properties of Ti-Si-N Nanocomposite Films Prepared by Pulsed-DC Plasma Enhanced CVD
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    摘要:

    用工業(yè)型脈沖直流等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù),在高速鋼(W18Cr4V)表面沉積了Ti-Si-N復(fù)合薄膜,研究了Ti-Si-N復(fù)合薄膜的微觀組織和力學(xué)性能。結(jié)果顯示,薄膜相結(jié)構(gòu)為納米晶TiN和納米晶或非晶TiSi2以及非晶相Si3N4。在Si含量為5.0at%-28.0at%范圍內(nèi),薄膜的晶粒尺寸逐漸變大;Ti-Si-N薄膜的顯微硬度相對(duì)于TiN有明顯增加,最高硬度可達(dá)40GPa:高溫退火后,Ti-Si-N納米復(fù)合薄膜的顯微硬度與晶粒尺寸在800℃高溫下仍然保持穩(wěn)定。

    Abstract:

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引用本文

牛新平 馬大衍 馬勝利 徐可為. Ti-Si-N納米復(fù)合薄膜的結(jié)構(gòu)與性能[J].稀有金屬材料與工程,2005,34(11):1751~1753.[Niu Xinping, Ma Dayan, Ma Shengli, Xu Kewei. Structure and Properties of Ti-Si-N Nanocomposite Films Prepared by Pulsed-DC Plasma Enhanced CVD[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(11):1751~1753.]
DOI:[doi]

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歷史
  • 收稿日期:2003-12-10
  • 最后修改日期:2005-06-03
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  • 出版日期: