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釔和鈰離子注入純鋯的腐蝕行為研究
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TG146.414

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Corrosion Behavior of Yttrium and Cerium-Implanted Zirconium
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    摘要:

    為了研究鈰,釔離子注入對(duì)純鋯耐蝕性的影響,純鋯樣品用MEVVA源以40 kV注入1×1016 ions/cm2至1×1017 ions/cm2劑量的釔和鈰,注入最高溫度約為150℃.用X光電子譜儀(XPS)分析注入表層元素的價(jià)態(tài);在1 mol/L硫酸溶液中3次極化測(cè)量來(lái)研究注入樣品的耐蝕性.對(duì)于釔離子注入,當(dāng)注入劑量大于5×1016 ions/cm2時(shí),注入樣品的耐蝕性顯著提高.用掠角X射線衍射(GAXRD)研究氧化膜中由于鈰離子注入發(fā)生的相轉(zhuǎn)移.三次極化測(cè)量表明注鈰樣品與空白樣品相比,耐蝕性下降許多.最后分別對(duì)注入釔和鈰樣品的腐蝕行為機(jī)理進(jìn)行了探討.

    Abstract:

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引用本文

彭德全 白新德 陳小文 周慶剛 劉曉陽(yáng) 余任泓.釔和鈰離子注入純鋯的腐蝕行為研究[J].稀有金屬材料與工程,2004,33(9):918~923.[Peng Dequan, Bai Xinde, Chen Xiaowen, Zhou Qinggang, Liu Xiaoyang, Yu Renhong. Corrosion Behavior of Yttrium and Cerium-Implanted Zirconium[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2004,33(9):918~923.]
DOI：[doi]

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