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射頻磁控濺射制備TiO2光催化薄膜的表征
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TG146.4

基金項目:

NationalFoundationofNaturalScience(59982002)，theBeijingNovaProgram(H020821250190)


Characterization of TiO2 Photocatalytic Thin Films Prepared by Radiofrequency Sputtering
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    摘要:

    在不同的Ar和O2氣流量比下，利用射頻磁控濺射技術(shù)在載波片上制備了TiO2薄膜。利用X射線衍射(XRD)，原子力顯微鏡(AFM)，拉曼光譜和UV-VIS-NIR分光光度計等技術(shù)對薄膜進行了表征。結(jié)果表明在Ar：O2=20sccm：5sccm下制備的薄膜具有較高的光催化活性。

    Abstract:

    TiO2 thin films were prepared on microscope glass slides by radiofrequency magnetron sputtering method under different flow ratios of Ar and O2 gases. The films were characterized by X-ray diffraction (XRD), atomic force microscope (AFM), Raman spectroscopy and UV-VIS spectrophotometer. The results indicated that the film prepared under the flow ratio of ArO2=20 sccm5 sccm has a higher photocatalytic activity.

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引用本文

鄭樹凱 郝維昌 潘峰 張俊英 王天民.射頻磁控濺射制備TiO2光催化薄膜的表征[J].稀有金屬材料與工程,2004,33(7):752~754.[Zheng Shukai, Hao Weichang, Pan Feng, Zhang Junyeng, Wang Tianmin. Characterization of TiO2 Photocatalytic Thin Films Prepared by Radiofrequency Sputtering[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2004,33(7):752~754.]
DOI：[doi]

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