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鈮-鉻復(fù)合濺射膜對鋯合金基體的附著性
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TG146.4

基金項目:

核燃料及材料國家級重點實驗室基金資助(51481080101SC0101)


Adhesion of Composite Films of Niobium Layer and Chromium Layer Sputtered on Zirconium Alloy Substrates
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    研究了鉻膜和鈮膜的復(fù)合對鋯合金基體上制備的商流磁控濺射薄膜附著性的影響。使用掃描電鏡(SEM)觀察了膜層界面，用原子力顯微鏡(AFM)觀察了膜層表而，用劃痕法測定了薄膜的附著性。結(jié)果表明：膜／基界面結(jié)合良好，界面成分升降區(qū)狹窄；鉻膜與鈮膜組成的復(fù)合薄膜結(jié)合緊密；鉻膜的組織為致密、邊界孔洞少的纖維狀晶粒，鉻膜厚度為2μm時，晶粒仍為業(yè)微米級，但晶粒頂而已出現(xiàn)拱形；膜厚同為2μm時，外層1μm鈮膜 內(nèi)層1μm鉻膜組成的復(fù)合膜的附著性分別是外層1μm鉻膜 內(nèi)層1μm鈮膜組成的復(fù)合膜的2．35倍、2μm鉻膜附著性的3倍，其原因在于膜層組織及力學(xué)性能變化、鈮膜韌性好和復(fù)合順序。因此，依靠鉻膜厚度的增加米提高鉻膜保護性的方法具有較大局限性，通過在一定厚度的鉻膜外復(fù)合鈮膜的方法則有較好的可行性。

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引用本文

范洪遠 樊慶文 向文欣 李偉 邱紹字 應(yīng)詩浩 張西鵬 沈保羅.鈮-鉻復(fù)合濺射膜對鋯合金基體的附著性[J].稀有金屬材料與工程,2004,33(6):598~601.[Fan Hongyuan, Fan Qinwen, Xiang Wenxin, Li Wei, Qiu Shaoyu, Ying Shihao, Zhang Xipeng, Shen Baoluo. Adhesion of Composite Films of Niobium Layer and Chromium Layer Sputtered on Zirconium Alloy Substrates[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2004,33(6):598~601.]
DOI：[doi]

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  • 最后修改日期:2002-12-02
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