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納米ITO粉末及高密度ITO靶制備工藝的研究現(xiàn)狀
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TF123.72

基金項目:

國防科工委預(yù)研科學(xué)基金資助(413100202)


Technological Development of Preparing Nanosized ITO Powder and Ultra High Density ITO Target
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    摘要:

    對銦錫氧化物ITO(Indium Tin Oxide)納米粉末的制備方法如均相共沉淀法，水溶液共沉淀法，電解法，溶膠-凝膠法，噴霧燃燒法，噴霧熱分解法等以及ITO磁控濺射靶的現(xiàn)有幾種制備工藝進行了綜合評述。闡述了各種制備工藝過程和工作原理，比較和分析了各工藝方法的優(yōu)缺點，并提出了制備高品質(zhì)ITO粉末及ITO靶的努力方向。

    Abstract:

    Technological methods of preparing indium tin oxide(ITO) powder and ITO sputtering target are summarized and some remark on them are made in this paper. The various preparing procedures and the principles of the technology methods are recommend and analyzed. Relative merits of these methods are investigated, furthermore, ideas of improvement on preparing good quality ITO powder and the target are proposed.

    參考文獻
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    引證文獻
引用本文

張維佳 王天民 糜碧 洪軻.納米ITO粉末及高密度ITO靶制備工藝的研究現(xiàn)狀[J].稀有金屬材料與工程,2004,33(5):449~453.[Zhang Weijia, Wang Tianmin, Mi bi, Hong Ke. Technological Development of Preparing Nanosized ITO Powder and Ultra High Density ITO Target[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2004,33(5):449~453.]
DOI：[doi]

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  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:2002-09-28
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