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雙靶濺射法制作SmS光學(xué)薄膜
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O484.41

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Deposition of SmS Optical Thin Films by Double-Target Sputtering
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    以Sm和Sm2S3為靶材,采用雙靶子濺射系統(tǒng),于單晶Si基板上成功制作了S-SmS和M-SmS微晶薄膜,并采用XRD,AFM和RBS及光學(xué)性能測定等測試手段對薄膜進行了分析測試。結(jié)果表明:基板溫度低于200℃的情況下;或者在基板溫度為400℃,薄膜組成中Sm過量的條件下均可以直接獲得在常溫常壓下穩(wěn)定存在的M-SmS微晶薄膜。S-SmS和M-SmS微晶薄膜表現(xiàn)出明顯不同的光學(xué)特性。

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引用本文

黃劍鋒 曹麗云.雙靶濺射法制作SmS光學(xué)薄膜[J].稀有金屬材料與工程,2004,33(3):333~336.[Huang Jianfeng, Cao Liyun. Deposition of SmS Optical Thin Films by Double-Target Sputtering[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2004,33(3):333~336.]
DOI:[doi]

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  • 最后修改日期:2002-08-20
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