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氧氣分壓和熱處理溫度對(duì)制備玻璃基二氧化鈦薄膜的表面形貌和光學(xué)性能的影響
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O484.41

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湖北省自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(2001abb077)


The Effect of Oxygen Partial Pressure and Annealing on Morphology and Optical Properties of TiO_2 Films Coated on Glass
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    摘要:

    用直流反應(yīng)磁控濺射法制備了玻璃基TiO2薄膜。濺射過程中，Ar氣的分壓保持在0．8SPa不變，而O2的分壓在0．10Pa～0．6SPa之間變化：鍍膜試樣在400℃～550℃之間進(jìn)行熱處理。用掃描電鏡(SEM)、透射電鏡(TEM)和紫外．可見光譜儀研究了薄膜的表面形貌、薄膜沉積速率和光學(xué)帶隙寬度。結(jié)果表明，隨著氧氣分壓從0．10Pa增加到0．6SPa，薄膜沉積速率從4．4nm／min下降到2．2nm／min，光學(xué)帶隙從3．67eV下降到3．59eV，薄膜表面呈現(xiàn)出均勻的納米晶粒和納米孔：550℃熱處理有助于較致密薄膜形成納米晶粒和納米孔，并降低帶隙寬度。

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引用本文

趙青南 李春領(lǐng) 趙修建.氧氣分壓和熱處理溫度對(duì)制備玻璃基二氧化鈦薄膜的表面形貌和光學(xué)性能的影響[J].稀有金屬材料與工程,2004,33(3):309~312.[Zhao Qingnan, Li Chunling, Zhao Xiujian. The Effect of Oxygen Partial Pressure and Annealing on Morphology and Optical Properties of TiO_2 Films Coated on Glass[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2004,33(3):309~312.]
DOI：[doi]

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  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:2003-01-08
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