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鋯—4合金氧化膜中的晶粒形貌觀察
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TG113.12

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國家自然科學(xué)基金資助項目(50171039)


The Grains Morphology of Oxide Films for Zircaloy-4
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    用掃描探針顯微鏡(SPM)研究了Zr—4合金在高壓釜中經(jīng)360℃高溫水腐蝕后氧化膜中的顯微組織和晶粒形貌。從氧化膜表面上觀察到的晶粒在100nm~400nm之間,比從截面上觀察到的大,說明氧化膜的晶粒在腐蝕過程中仍在不斷長大。從離子轟擊蝕刻后的氧化膜截面上,可以區(qū)分出由大角度晶界構(gòu)成的柱狀晶,以及在柱狀晶中由小角度晶界構(gòu)成的等軸晶。在三晶交界處,常常有明顯的“凹陷”,這應(yīng)是空位擴散凝聚后形成的空洞,尺度在幾納米至幾十納米間。在氧化膜的截面上,除了可觀察到裂紋和空洞等缺陷外,在氧化膜/金屬交界處,有時還可觀察到片層狀的氫化鋯和顯示不出晶界的非晶ZrO2。

    Abstract:

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引用本文

周邦新 李強 姚美意 劉文慶.鋯—4合金氧化膜中的晶粒形貌觀察[J].稀有金屬材料與工程,2003,(6):417~419.[Zhou Bangxin, Li Qiang, Yao Meiyi, Liu Wenqing. The Grains Morphology of Oxide Films for Zircaloy-4[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2003,(6):417~419.]
DOI:[doi]

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歷史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:2002-11-08
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