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N^＋離子注入TiNi形狀記憶合金的微觀表面分析
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TG139.6 TG174.444

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國家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(10175042)


Micro- analysis of N+ Ion- implanted TiNi Shape Memory Alloy
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    摘要:

    對TiNi形狀記憶合金N+離子注入后進(jìn)行了XRD分析以及XPS分析.N+離子注入的能量為75keV,束流為16.3μA/cm2,注量分別為3×1017N+cm-2和8×1017N+cm-2,注入過程中溫度低于200℃.XRD和XPS分析結(jié)果都表明N+離子注入試樣后以TiN的形式存在;且由于離子注入時的真空度較低,在注入層的表面也形成了少量的TiO2;由于Ni的濺射系數(shù)比Ti的大,在試樣XPS寬程掃描圖中,沒有出現(xiàn)Ni的信號.

    Abstract:

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引用本文

封向東,王治國,祖小濤,戴晶怡. N^＋離子注入TiNi形狀記憶合金的微觀表面分析[J].稀有金屬材料與工程,2003,(4):309~312.[Feng Xiangdong, Wang Zhiguo, Zu Xiaotao, Dai Jinyi . Micro- analysis of N+ Ion- implanted TiNi Shape Memory Alloy[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2003,(4):309~312.]
DOI：[doi]

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歷史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:2001-07-13
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