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U表面循環(huán)Ar^＋轟擊—磁控濺射離子鍍Ti研究
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TG174.444

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Ti Coatings on Uranium Substrates by Repeated Ar+ Bombardment - Magnetron Sputter Ion Plated
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    摘要:

    用設(shè)計(jì)的循環(huán)Ar^ 轟擊-磁控濺射離子鍍法在U表面上鍍Ti，并采用掃描電鏡（SEM），X射線光電子能譜儀和濕熱加速腐蝕實(shí)驗(yàn)。研究了其表面，剖面形貌，鍍層的組成與結(jié)構(gòu)，膜基界面特征，以及耐濕熱腐蝕性能。結(jié)果表明，U上循環(huán)Ar^ 轟擊-磁控濺射離子鍍Ti層結(jié)晶致密，晶粒細(xì)化，鍍層由表及里分別由TiO2/TiO/Ti構(gòu)成，鍍層厚度≥4μm時(shí)，其試樣的耐濕熱腐蝕性能較之金屬U來講有較大程度的提高。

    Abstract:

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引用本文

鮮曉斌 劉柯釗 等. U表面循環(huán)Ar^＋轟擊—磁控濺射離子鍍Ti研究[J].稀有金屬材料與工程,2003,(1):67~69.[Xian Xiaobin, Liu Kezhao, Lu Xuechao, Zhang Yongbin. Ti Coatings on Uranium Substrates by Repeated Ar+ Bombardment - Magnetron Sputter Ion Plated[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2003,(1):67~69.]
DOI：[doi]

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  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:2002-06-13
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