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研究了用能量為3．0keV－4．0keV，束流為80mA－200mA的低能氮和氬離子束對(duì)Ti膜進(jìn)行轟擊的作用以及用低能氮離子束對(duì)真空電弧沉積Ti－N膜層輔助沉積作用。結(jié)果表明：用低能氮離子束對(duì)Ti膜進(jìn)行轟擊可以形成Ti2N相，在（204）晶面出現(xiàn)一定的擇優(yōu)取向，并對(duì)Ti膜層有一定的強(qiáng)化作用；在低能氮離子束對(duì)真空電弧輔助沉積過(guò)程中，膜層表現(xiàn)為較高的顯微硬度；隨低能離子束能量的增大，真空電弧沉積膜層中Ti2N相增多，在（002）晶面出現(xiàn)擇優(yōu)取向，膜層晶粒有粗化的趨勢(shì)，但顯微硬度卻增加，這與Hall-Petch公式不符。