摘要:據(jù) 2 0 0 2年超導(dǎo)周刊報(bào)導(dǎo) ,日本富士公司一個(gè)研究小組用 3段化學(xué)氣相沉積技術(shù) (CVD)在沒(méi)織構(gòu)的軋制銀帶上制做出具有 3× 10 4A/ cm2 (77K,0 T)臨界電流密度的 11m長(zhǎng) YBCO涂層超導(dǎo)帶。臨界電流密度是用直流四引線(xiàn)方法測(cè)量的從頭至尾整根超導(dǎo)帶的 JC。主要工藝參數(shù)是 :沉積速度約 3m/ h,相當(dāng)快 ,可以滿(mǎn)足實(shí)際連續(xù)制做工藝的要求 ;沉積溫度 80 0℃ ;總壓力 5 0 0 Pa,氧分壓 130 Pa～ 14 0 Pa。YBCO層的厚度約為 0 .35μm,在 YBCO層上還用磁控濺射沉積一層 3μm厚的銀保護(hù)層。橫截面用透射電子顯微鏡觀(guān)測(cè)結(jié)果表明 ,在各沉積層之間沒(méi)…