TG175.3
提出一種在氰化物基電解液中純金材料的電化學(xué)拋光方法。討論了電解液組成和陽(yáng)極電流密度對(duì)純金材料表面光亮度的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:采用氰化物基電解液,陽(yáng)極電流密度控制在35A/dm^2,溫度30℃~40℃,拋光時(shí)間2min~5min,可使表面光亮度提高到原來的兩倍多。
馬勝利 井曉天.純金材料電化學(xué)拋光工藝研究[J].稀有金屬材料與工程,2000,(4):276~278.[Ma Shengli, Jing Xiaotian, Ge Liling . Investigation of an Electropolishing Process for Pure(99.99%) Gold[J]. Rare Metal Materials and Engineering,2000,(4):276~278.]DOI:[doi]
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