取高純鈦1克,用氫氟酸溶解后,加鹽酸在水浴上蒸發(fā)到小體積,在酒石酸銨存在下,用吡咯烷二硫代氨基甲酸鹽-雙硫腙/三氯甲烷在pH值為3、5、7的條件下萃取,使雜質與主體分離并得到富集。將有機相蒸干,破壞有機物質,將殘渣進行光譜測定。本方法可以測定高純鈦中As、Co、Cd、Sb、Fe、Mn、Pb、Cr、Sn、Ni、Bi、V、Mo、Cu、Zn等15個元素,測定下限為1×10~(-5)—5×10~(-5)%。
杜澤華.高純鈦中痕量雜質的化學光譜測定[J].稀有金屬材料與工程,1986,(1).[.[J]. Rare Metal Materials and Engineering,1986,(1).]DOI:[doi]
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