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電化學(xué)刻蝕對(duì)鈦基IrO2-Ta2O5電極性能的影響
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    摘要:

    采用電化學(xué)刻蝕處理鈦基材，再通過(guò)涂覆、燒結(jié)的方法制備出鈦基IrO2-Ta2O5電極。與噴砂處理相比，經(jīng)電化學(xué)刻蝕處理后，鈦基材表面的凹坑分布更均勻，涂覆涂層后的鈦基IrO2-Ta2O5電極的表面凹坑深淺均勻，呈規(guī)則分布。強(qiáng)化壽命測(cè)試結(jié)果表明，經(jīng)電化學(xué)刻蝕處理后制備的鈦電極強(qiáng)化壽命平均值達(dá)到20d，比噴砂處理后制備的電極壽命（16d）顯著提高20％；電化學(xué)刻蝕處理后制成的鈦電極析氧電位為1．62—1．73V，明顯低于噴砂后制備的鈦電極（1．92V），電解時(shí)可降低電耗。

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引用本文

張苓;馮慶;蔡繼東;張玉萍;賀斌.電化學(xué)刻蝕對(duì)鈦基IrO2-Ta2O5電極性能的影響[J].鈦工業(yè)進(jìn)展,2017,34(3).

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  • 在線發(fā)布日期: 2021-05-06
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