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中頻反應(yīng)濺射TiO2膜層的性能
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O484.1

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    摘要:

    TiO2是一種應(yīng)用廣泛的高折射率膜層，在可見光范圍內(nèi)是透明的，具有良好的機(jī)械性能和化學(xué)穩(wěn)定性。它的存在形式有非晶態(tài)和三種晶體結(jié)構(gòu)形態(tài)（金紅石、銳鈦礦和板鈦礦）。金紅石結(jié)構(gòu)最穩(wěn)定，折射率和硬度最高。真空蒸鍍是制備小規(guī)格TiO2膜層最好的沉積方法，如透鏡或眼鏡片的抗反射膜。磁控管濺射可以保證寬度近4m膜層的均勻性，已經(jīng)成為大規(guī)格膜層的主要制備方法，但是這種方法沉積率非常低，難以實(shí)用。采用雙磁控管技術(shù)配合以40kHZ的中頻電源，可使TiO2膜層的沉積速率大幅度提高。1試樣的制備試樣在裝有載荷鎖定裝置的LeyboldA400濺射…

    Abstract:

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引用本文

.中頻反應(yīng)濺射TiO2膜層的性能[J].鈦工業(yè)進(jìn)展,1999,16(5):32-33.

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