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多元涂層TiAIN性能的研究
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TG14

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    1涂層沉積的條件涂層的沉積實驗是在研制的JDH－l型設備上進行的，工藝條件為：氮氣分壓：I7（。）＝5～0·SPa；靶尺寸：鈦靶di60mm、鋁靶rplbo工件偏壓：K一0—500V；工件溫度：T—300℃一350℃工件材料：高速鋼2hAIN涂層的組織與結(jié)構(gòu)用PSEM一500X掃描電子顯微鏡觀察徐層的形

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引用本文

.多元涂層TiAIN性能的研究[J].鈦工業(yè)進展,1997,14(4).

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