美國施皮爾公司采用離子束輔助沉積法(IBAD)研制出一種具有低溫生物相容性好和耐磨的氨化鈦涂層。離子束輔助沉積法是一種利用電子束蒸發(fā)和離子束轟擊同時(shí)進(jìn)行而生產(chǎn)氨化鈦涂層的方法。這種TiN涂層沉積在金屬、陶瓷和聚合物的醫(yī)
.醫(yī)療器械用的TiN涂層[J].鈦工業(yè)進(jìn)展,1993,10(4).
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